http://uv-curing-module.com/hi/tags/%E0%A4%B9%E0%A5%88%E0%A4%A8%E0%A5%8B%E0%A4%B5%E0%A4%BF%E0%A4%AF%E0%A4%BE/ Recent content in हैनोविया on UV Curing Module Hugo hi Wed, 17 Jun 2026 20:56:17 +0800 http://uv-curing-module.com/hi/posts/replacement-uv-lamp-for-hanovia/ Wed, 17 Jun 2026 20:56:17 +0800 http://uv-curing-module.com/hi/posts/replacement-uv-lamp-for-hanovia/ <p><img src="http://uv-curing-module.com/images/b717d9f0742111373c1b4fa943a6ce46.png" alt="हैनोविया के लिए प्रतिस्थापन यूवी लैंप"></p> <p>प्रेस फ्लोर पर, आपको तो पता ही है कि क्या होता है… मोटी परतों में प्रिंटिंग करने पर, जब यूवी सिस्टम फोटोइनिशिएटरों को पूरी तरह से सामग्री में पहुँचाने में असमर्थ रहता है, तो मोटी परतें बनने लगती हैं, एवं रंगद्रव्य भी ठीक से सूख नहीं पाता। ऐसी स्थिति में प्रिंटिंग की गति कम हो जाती है, लेकिन अभी भी अवैध/खराब उत्पादों की संख्या बढ़ती ही जाती है।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हम हैनोविया यूवी लैंपों को मध्य-दबाव वाले पारे के वाष्प स्रोतों के रूप में इस्तेमाल करते हैं; इससे स्थिर स्पेक्ट्रल आउटपुट प्राप्त होता है। 365 नैनोमीटर तरंगदैर्घ्य वाली किरणें ही फोटोइनिशिएटरों में गहरे स्तर पर अवशोषण करने में मदद करती हैं। साथ ही, 385–405 नैनोमीटर तरंगदैर्घ्य वाली किरणें मोटी परतों में आवश्यक क्रॉस-लिंकिंग प्रदान करती हैं।<br> हम ऐसी व्यवस्था करते हैं कि सब्सट्रेट की सतह पर उच्च ऊर्जा घनत्व प्राप्त हो; न कि केवल लैंप की ऊँची शक्ति ही पर्याप्त हो। डाइक्रोइक-लेपित रिफ्लेक्टर, आउटपुट को सक्रिय बैंड में केंद्रित करता है, एवं अनावश्यक ऊष्मा को कम करता है। ओजोन-रहित क्वार्ट्ज आवरण, कार्यस्थल को स्वच्छ रखता है, एवं रिफ्लेक्टर को क्षति से बचाता है।</p>